Al表面條紋狀準有序納米結構的AFM研究

用電化學拋光法在高純鋁表面生成納米級條紋狀的準有序結構.在原子力顯微鏡(AFM)下觀察,條紋狀結構的突起和凹槽部分線寬各為40～50 nm,峰-谷高度差為1.5～5.0 nm.隨工藝條件的變化該納米結構的尺寸和有序程度有較大差異,只有在很窄的參數范圍內才可以得到大面積有序的條紋狀結構.在用陽極氧化法制備多孔膜過程中該結構不能保持,對這種有序結構的形成機理提出了定性解釋.

作 者： 郭等柱 侯士敏 申自勇 張耿民 趙興鈺 劉惟敏 吳錦雷 薛增泉   作者單位： 北京大學電子學系,  刊 名： 物理化學學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA  年，卷(期)： 2001 17(11)  分類號： O64  關鍵詞： 鋁表面   電化學拋光   條紋結構   準有序   陽極氧化  

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