均勻軟X射線多層膜制備方法研究

介紹了基于速度調(diào)制技術(shù)的均勻軟X射線多層膜制備方法,并采用該方法在直徑為150mm的平面硅基板上制備出Mo/Si多層膜,其中心波長為13.5nm,膜厚空間非均勻性優(yōu)于1%,較轉(zhuǎn)盤勻速濺射方法制備的多層膜膜厚空間均勻性提高了近6倍.

作 者： 金春水 林強 馬月英 裴舒 曹健林   作者單位： 中國科學院,長春光學精密機械與物理研究所,吉林,長春,130022  刊 名： 強激光與粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2003 15(5)  分類號： O434.14  關(guān)鍵詞： 軟X射線   多層膜   磁控濺射   均勻性  

【均勻軟X射線多層膜制備方法研究】相關(guān)文章：

同步輻射(軟X射線)輻照玉米的細胞學效應研究04-27

Fe/Mo多層膜的微觀結(jié)構(gòu)與應力研究04-26

X射線脈沖星導航定位技術(shù)研究04-27

高能X射線的硬化校正04-27

高耐污染中空纖維膜制備方法及產(chǎn)業(yè)化04-26

坡莫合金/銅磁性多層膜微觀力學性能的研究04-26

硅橡膠/陶瓷復合膜的制備及其油氣回收性能研究04-25

十八烯反應膜的制備及其微觀摩擦學性能研究04-27

同步輻射軟X射線Nk對產(chǎn)L-乳酸米根霉的誘變效應04-27

微囊藻毒素的提取純化及制備方法研究04-25