藍光相變光盤的多層膜結構設計

為了使光盤獲得優(yōu)良的記錄/讀出性能并能夠長期穩(wěn)定地使用,必須優(yōu)化設計相變光盤的多層膜結構.采用自行設計的模擬分析相變光盤讀出過程設計軟件,從光學角度出發(fā)模擬計算了藍光(405 nm)相變光盤的膜層結構,研究了多層膜系的反射率和反射率對比度等光學參量與各層膜厚度和槽深的關系.研究得出的最佳多層膜結構為:下介電層/記錄層/上介電層/反射層的厚度對于臺記錄為100 nm/10 nm/25 nm/60 nm,而對于槽記錄則為140 nm/15 nm/30 nm/60 nm,槽深為50 nm.模擬計算結果對于將來高密度藍光相變光盤的制備具有一定的指導意義.

作 者： 劉波 阮昊 干福熹   作者單位： 中國科學院上海光學精密機械研究所,上海,201800  刊 名： 光學學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(12)  分類號： O438  關鍵詞： 薄膜光學   相變光盤   藍光   多層膜結構  

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