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表面溫敏聚合物刷的原子力顯微鏡和石英晶體微天平研究

時(shí)間:2023-04-26 20:45:53 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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表面溫敏聚合物刷的原子力顯微鏡和石英晶體微天平研究

通過表面引發(fā)的原子轉(zhuǎn)移自由基聚合在硅片表面制備了聚(N-異丙基丙烯酰胺)(PNIPAAm)聚合物刷.用原子力顯微鏡(AFM)分別研究了PNIPAAm的接枝動(dòng)力學(xué)、溫度和溶劑性質(zhì)對(duì)厚度的影響以及PNIPAAm鏈與原子力針尖間的粘附力.結(jié)果表明,PNIPAAm鏈在硅片表面的生長(zhǎng)具有很好的可控性.常溫下厚度為33 nm的PNIPAAm膜在水溶液中的增加到82.4 nm;而在甲醇/水(V:V=1:1)溶液中,PNIPAAm分子鏈處于坍塌收縮狀態(tài),厚度降低為45 nm;在55℃下干燥所得厚度則僅為22nm.力-距離測(cè)量結(jié)果表明,在溶液中,PNIPAAm鏈與原子力針尖之間的粘附力遠(yuǎn)小于在干態(tài)下的粘附力.用石英晶體微天平(QCM-D)對(duì)PNIPAAm的可逆相轉(zhuǎn)變進(jìn)行了.研究,結(jié)果表明PNIPAAm分子鏈隨溫度變化的構(gòu)象轉(zhuǎn)變是發(fā)生在30~34℃之間的連續(xù)過程.

表面溫敏聚合物刷的原子力顯微鏡和石英晶體微天平研究

作 者: 李林輝 吳金丹 王洪霞 高長(zhǎng)有 Li,Linhui Wu,Jindan Wang,Hongxia Gao,Changyou   作者單位: 李林輝,吳金丹,王洪霞,Li,Linhui,Wu,Jindan,Wang,Hongxia(浙江大學(xué)高分子科學(xué)與工程學(xué)系教育部高分子合成與功能構(gòu)造重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,杭州,310027)

高長(zhǎng)有,Gao,Changyou(浙江大學(xué)高分子科學(xué)與工程學(xué)系教育部高分子合成與功能構(gòu)造重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,杭州,310027;浙江大學(xué)傳染病診治國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,杭州,310003) 

刊 名: 化學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC SCI PKU 英文刊名: ACTA CHIMICA SINICA  年,卷(期): 2009 67(24)  分類號(hào): O6  關(guān)鍵詞: 原子轉(zhuǎn)移自由基聚合(ATRP)   聚N-異丙基丙烯酰胺)   原子力顯微鏡   石英晶體微天平   atom transfer radical polymerization   poly(N-isopropylacrylamide)   atom force microscopy   quartz crystal microbalance  

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