內(nèi)電解接觸氧化還原法處理頭孢噻肟鈉廢水實驗研究

摘要： 采用內(nèi)電解法對頭孢噻肟鈉模擬廢水進行了處理研究.單獨采用內(nèi)電解法處理時,廢水的CODcr去除率為30.8%,通過投加一定量的氧化劑可以增強內(nèi)電解處理效果.結(jié)果表明在處理過程中投加一定量的氧化劑后,廢水CODcr去除率可提高到82.5%. 作 者： 湯烜    羅康碧    李滬萍    鄒國華    陳林    張鋒    祝枝山    TANG Xuan    LUO Kang-bi    LI Hu-ping    ZOU Guo-hua    CHEN Lin    ZHANG Feng    ZHU Zhi-shan   作者單位： 昆明理工大學(xué),化學(xué)工程學(xué)院,云南,昆明,650224  期 刊： 化工科技  ISTIC   Journal： SCIENCE & TECHNOLOGY IN CHEMICAL INDUSTRY  年，卷(期)： 2008, 16(6)  分類號： X703.1  關(guān)鍵詞： 活性炭    鐵粉    氧化劑    頭孢噻肟鈉    廢水   

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